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国内首个自主开发180nm成套硅光工艺PDK在重庆发布
来源:本站原创  浏览次数:105  发布时间:2020-06-10

5月28-30日,第二届中欧国际硅光技术研讨会在重庆成功召开。备受期待的联合微电子中心有限责任公司(CUMEC公司)180nm成套硅光工艺PDK(process design kit)发布会也于今(30)日成功举办。


这标志着CUMEC公司具备硅基光电子领域全流程自主工艺制造能力,开始向全球提供硅光芯片流片服务和EPDA设计服务。


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发布会上,CUMEC公司执行董事兼总经理韩建忠博士在现场致辞中表示,CUMEC公司将始终坚持开放合作的发展理念,稳步实现国际一流的高端特色工艺平台建设目标,与同行专家学者海内外朋友一道,共同为硅基光电子技术与产业应用的发展贡献智慧和力量。


近几年,硅光芯片被广为提及,是世界各大国抢先布局的重点,被认为是芯片领域“换道超车”的核心技术。


5G时代,数据传输需求越来越高,传统的电芯片在信号传输模式上遇到了带宽、功耗、延时等一系列瓶颈问题。将光引入芯片,可以提高传输性能实现带宽100倍以上的增长,同时功耗和尺寸还有大幅度的降低。


硅基光电子芯片技术,则是将光的极高带宽、超快速率和高抗干扰特性,以及微电子技术在大规模集成、低成本等方面的优势进行结合,形成一个完整的具有综合功能的新型大规模光电集成芯片。


这种芯片适用于5G、数据中心、无人驾驶、人工智能等领域。因此,在重庆的大数据智能化发展中,硅基光电子芯片极具想象空间。


欧洲硅光联盟主席、比利时根特大学教授、imec高级研究员Roel Baets从比利时发来线上致辞,他表示,硅基光电子技术作为一项新兴技术正在快速发展,产业化速度亦在不断加快,CUMEC公司发布的180nm成套硅光工艺PDK令人振奋,相比集成电路工业无比成熟的PDK,硅基光电子领域的PDK虽然已经出现了几个,但是还很单薄,还在发展的早期,CUMEC公司发布的PDK是硅光领域的一大进步。

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