电子材料市场研究机构TECHCET最新数据显示，光刻胶市场预计将在2024年反弹，同比增长7%，市场规模达到25.7亿美元；2022-2027年间复合年增长率为4.1%。

  TECHCET指出，受先进逻辑工艺与存储器等新技术驱动，增长最快的细分领域为EUV和KrF光刻胶。此外，用于成熟制程（如i、g和KrF/248nm）的光刻胶材料也将继续推动市场增长。随着三星、台积电和英特尔等公司的部分工艺制程从ArF和ArFi转向ArFi和EUV组合，预计美光和SK海力士也将紧随其后，EUV光刻胶产量不断爬升。

  负性EUV光刻胶的使用增加也在推动新的变化，例如负性溶剂的开发，以及光刻胶涂布之前的晶圆预湿润等等，同时这类光刻胶的增长预计将会减少水溶液显影剂和边胶清洗的使用。

  晶圆厂扩建和日韩贸易纠纷的引起的出口限制也促进了一些小型光刻胶厂商在当地市场站稳脚跟。例如日本对韩国的光刻胶出口限制（虽已取消），以及中国为了把控地缘政治引发的断供风险而推进国产化等因素，都推动了中国大陆和台湾，以及韩国当地材料供应商的本土化进程。